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TEM样品制备(设备:聚焦离子束ZEISS Crossbeam 540)

利用FIB进行各类样品的TEM样品制备,包括块体、薄膜、芯片、颗粒等。破坏范围小,可对粉末、微纳米线、文物制样

品牌
ZEISS
型号
ZEISS Crossbeam 540
  • 三维重构
  • TEM样品制备
  • 芯片修补
1500.00元/机时
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